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李薇薇博士:納米二氧化硅的制備及在CMP中的應用(報告)

發布時間:2023年08月23日      來源于:粉體圈
1965年Monsanto首次提出化學機械拋光技術,即在磨盤和研磨料的作用下,先通過拋光漿料的化學作用使材料表面薄層軟化,隨后在磨料、磨盤及拋光墊的機械作用下將其磨掉并帶走``````
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